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裂解源

裂解源

Cracker
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部件
数量
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裂解源
Cracker
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产品描述

  主要特点  / MAIN FEATURE

 

  主要特点  / MAIN FEATURE

 

● 超高真空兼容
● 优异的温度和束流稳定性
● 独立式的水冷结构,源与水冷可单独拆卸
● 适用于腐蚀材料的蒸发
● 低温区和裂解区之间具有良好的隔热性

● 坩埚容积可达1000cc

●超高真空兼容
●优异的温度和束流稳定性
●独立式的水冷结构,源与水冷可单独拆卸
●适用于腐蚀材料的蒸发
●低温区和裂解区之间具有良好的隔热性

●坩埚容积可达1000cc

  产品应用  / APPLICATIONS

 

MBE,表面科学,薄膜生长,样品制备以及II-VI半导体薄膜研究和太阳能领域

● 适用于蒸发:硫、硒、砷等材料

  产品应用  / APPLICATIONS

 

● MBE,表面科学,薄膜生长,样品制备以及II-VI半导体薄膜研究和太阳能领域

● 适用于蒸发:硫、硒、砷等材料

  型号注解  / PART NUMBER COMPOSITION

 

②可选 100:DN100CF,63:DN63CF,35:DN40CF     ⑤可选 P:气动,M:手动

  型号注解  / PART NUMBER COMPOSITION

 

    ②可选 100:DN100CF,63:DN63CF,35:DN40CF

    ⑤可选 P:气动,M:手动

  技术参数  / TECHNICAL DATA

  技术参数  / TECHNICAL DATA

 

 

安装法兰 DN40CF (O.D.2.75''), DN63CF (O.D. 4.5'' ),
DN100CF (O.D. 6.0'' )
腔内长度 200~500mm可选
腔内直径 36mm,56mm,94mm
工作温度 高温区:300~800℃
低温区:100~400℃
加热方式 低温坩埚区、裂解区:钽丝加热
温度稳定性 ±0.1℃
温度测量 K型热偶
烘烤温度 200℃
源数量 1
坩埚材料 石英,热解氮化硼,氧化铝,可定制其他材料
坩埚容积 低温区容积:1000cc
冷却方式 低温坩埚区和裂解区独立式水冷壁,与源炉分开拆卸
未找到相应参数组,请于后台属性模板中添加
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裂解源

Cracker
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产品编号
所属分类
部件
数量
-
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产品描述

  主要特点  / MAIN FEATURE

 

  主要特点  / MAIN FEATURE

 

● 超高真空兼容
● 优异的温度和束流稳定性
● 独立式的水冷结构,源与水冷可单独拆卸
● 适用于腐蚀材料的蒸发
● 低温区和裂解区之间具有良好的隔热性

● 坩埚容积可达1000cc

●超高真空兼容
●优异的温度和束流稳定性
●独立式的水冷结构,源与水冷可单独拆卸
●适用于腐蚀材料的蒸发
●低温区和裂解区之间具有良好的隔热性

●坩埚容积可达1000cc

  产品应用  / APPLICATIONS

 

MBE,表面科学,薄膜生长,样品制备以及II-VI半导体薄膜研究和太阳能领域

● 适用于蒸发:硫、硒、砷等材料

  产品应用  / APPLICATIONS

 

● MBE,表面科学,薄膜生长,样品制备以及II-VI半导体薄膜研究和太阳能领域

● 适用于蒸发:硫、硒、砷等材料

  型号注解  / PART NUMBER COMPOSITION

 

②可选 100:DN100CF,63:DN63CF,35:DN40CF     ⑤可选 P:气动,M:手动

  型号注解  / PART NUMBER COMPOSITION

 

    ②可选 100:DN100CF,63:DN63CF,35:DN40CF

    ⑤可选 P:气动,M:手动

  技术参数  / TECHNICAL DATA

  技术参数  / TECHNICAL DATA

 

 

安装法兰 DN40CF (O.D.2.75''), DN63CF (O.D. 4.5'' ),
DN100CF (O.D. 6.0'' )
腔内长度 200~500mm可选
腔内直径 36mm,56mm,94mm
工作温度 高温区:300~800℃
低温区:100~400℃
加热方式 低温坩埚区、裂解区:钽丝加热
温度稳定性 ±0.1℃
温度测量 K型热偶
烘烤温度 200℃
源数量 1
坩埚材料 石英,热解氮化硼,氧化铝,可定制其他材料
坩埚容积 低温区容积:1000cc
冷却方式 低温坩埚区和裂解区独立式水冷壁,与源炉分开拆卸
关键词:
裂解源
Cracker
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