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适用于各类真空镀膜系统，对薄膜生长厚度、沉积速率的监测与控制，典型应用包括但不限于：<br> ● 热蒸发与电子束蒸镀系统<br> ● 磁控溅射镀膜系统<br> ● 分子束外延系统<br> ● 原子层沉积系统<br>
适用于各类真空镀膜系统，对薄膜生长厚度、沉积速率的监测与控制，典型应用包括但不限于：<br> ● 热蒸发与电子束蒸镀系统<br> ● 磁控溅射镀膜系统<br> ● 分子束外延系统<br> ● 原子层沉积系统<br>
适用于各类真空镀膜系统，对薄膜生长厚度、沉积速率的监测与控制。典型应用包括但不限于：<br> ●热蒸发与电子束蒸镀系统<br> ●磁控溅射镀膜系统<br> ●分子束外延系统<br> ●原子层沉积系统<br>
●小型化设计，占地极小，灵活适配各类实验环境<br> ●原子级薄膜生长与埃米级厚度精确控制<br> ●优异保形沉积能力，适用于复杂结构及粉体表面改性<br> ●支持多种氧化物及复合薄膜沉积<br> ●提供成熟工艺包支持，实现快速部署与稳定复现<br> ●兼容4英寸晶圆与微纳粉体样品<br>
京公网安备 11011602001024号