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电子束蒸发源

E-beam Evaporator

产品描述

主要特点  / MAIN FEATURE


●超高真空兼容

●蒸发温度不小于3000℃

●精确的线性推进:0.01mm精度,25mm行程,特殊设计

●内置挡板,不受空间限制完全打开

●可靠的束流监控,有效避免外界电磁场影响

●填料方便快速

 

产品应用  / APPLICATIONS


● 表面科学        ● 超薄膜层        ● 多分子层

● 掺杂               ● 样品制备        ● 密接金属化

 

型号注解  / PART NUMBER COMPOSITION


② 35:DN40CF     ⑥ 可选 P:气动,M:手动

 

技术参数  / TECHNICAL DATA


安装法兰

DN40CF (O.D. 2.75'' )

烘烤温度

200℃

腔内直径

34mm

腔内长度

210 mm标准长度, 190mm~400mm 可选长度

源数量

1

样品类型

棒材,颗粒,粉末(可供坩埚)

冷却方式

内部水冷, 1L/min

束流监控范围

0.1nA~1mA

灯丝电流

0~5A (10mA step)

加速电压

0~2000V

最大功率

250W

束流发散度

±6°

蒸发温度

≥3000℃

坩埚容量

0.1cc

坩埚材料

钨,钼,钽,石墨,可定制其他材料

棒材尺寸

直径2~4 mm,长度30~60mm

相关文件 / DOWNLOAD

Cn-电子束蒸发源