Nexalayer™-8'' 原子层沉积系统

Nexalayer™ ALD SYSTEM

产品描述

主要特点 / MAIN FEATURE

● 可与超高真空（UHV）系统（如 XPS, STM）直接互联，实现样品原位分析与制备

● 最多支持八种前驱体源、两路氧化/还原气路及三路载气，满足多样化、复杂的薄膜生长需求

● 自动控温结合模糊算法自整定技术，控温精度达 ±1°C，确保工艺重复性与薄膜质量

● 自动化控制系统支持用户自行编程，轻松实现各类复杂 ALD 生长工艺

● 集成安全互锁报警功能，全面保障设备与操作人员安全

ALD 系统性能测试数据 / ALD TEST DATA

技术参数 / TECHNICAL DATA

产品系列		Nexalayer^TM-8''
主腔体	材质	316SS
	工作温度	RT~400℃
	控温精度	±1℃
	基底	最大单片8″圆形样品
前驱体运输	4个低温前驱体气路 (RT~100℃)	(CH₃)₃Al，(CH₃)₃Ge，H₂O etc
	4个高温前驱体气路 (RT~300℃)	Fe(Cp)₂， Precious metal precursors
	控温精度	±1℃
气体流量控制	5路气体流量控制，流量范围0~500sccm
载气	N₂，Ar
反应气	O₂/O₃，H₂
控温路数	最多48路，控温精度±1℃
阀门控制路数	最多24路，控制精度15ms
控制系统	主控单元，加热单元，测温单元
软件控制	LabVIEW 图形化设计，PID自动控温、带模糊算法自整定，可编程带安全互锁报警功能
可选模块	残余气体分析模块
	等离子体模块
	QCM原位监测模块
	椭偏仪光学原位检测模块
	FRIT光谱原位检测模块

相关文件 / DOWNLOAD

Cn-Nexalayer原子层沉积系统0919