1
产品描述
主要特点 / MAIN FEATURE
主要特点 / MAIN FEATURE
● 超高真空兼容
● 优异的温度和束流稳定性
● 独立式的水冷结构，源与水冷可单独拆卸
● 适用于腐蚀材料的蒸发
● 低温区和裂解区之间具有良好的隔热性
● 坩埚容积可达1000cc
●超高真空兼容
●优异的温度和束流稳定性
●独立式的水冷结构，源与水冷可单独拆卸
●适用于腐蚀材料的蒸发
●低温区和裂解区之间具有良好的隔热性
●坩埚容积可达1000cc
产品应用 / APPLICATIONS
● MBE，表面科学，薄膜生长，样品制备以及II-VI半导体薄膜研究和太阳能领域
● 适用于蒸发：硫、硒、砷等材料
产品应用 / APPLICATIONS
● MBE，表面科学，薄膜生长，样品制备以及II-VI半导体薄膜研究和太阳能领域
● 适用于蒸发：硫、硒、砷等材料
型号注解 / PART NUMBER COMPOSITION
②可选 100：DN100CF，63：DN63CF，35：DN40CF ⑤可选 P：气动，M：手动
型号注解 / PART NUMBER COMPOSITION
②可选 100：DN100CF，63：DN63CF，35：DN40CF
⑤可选 P：气动，M：手动
技术参数 / TECHNICAL DATA
技术参数 / TECHNICAL DATA
| 安装法兰 | DN63CF (O.D. 4.5'' )，DN100CF (O.D. 6.0'' ) |
| 腔内长度 | 200~500mm可选 |
| 腔内直径 | 36mm，56mm，94mm |
| 工作温度 | 高温区：300~800℃ |
| 低温区：100~400℃ | |
| 加热方式 | 低温坩埚区、裂解区：钽丝加热 |
| 温度稳定性 | ±0.1℃ |
| 温度测量 | K型热偶 |
| 烘烤温度 | 200℃ |
| 源数量 | 1 |
| 坩埚材料 | 石英，热解氮化硼，氧化铝，可定制其他材料 |
| 坩埚容积 | 低温区容积：1000cc |
| 冷却方式 | 低温坩埚区和裂解区独立式水冷壁，与源炉分开拆卸 |
