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CN / EN

保定Epitara™-2'' 分子束外延系统

Epitara™ MBE SYSTEM

产品描述

主要特点  / MAIN FEATURE


● 模块化设计,支持核心功能模块自由选配,满足多步骤、复杂工艺的应用需求,精准匹配不同实验目标

● 集成化程度高,占地面积极小,兼顾性能与空间效率,实验适用性强

● 适配大型电子束蒸源,满足多样化样品制备需求

● 扩展性强,可与其他超高真空系统实现互联

● 集成控制系统简化操作,支持程序预设,降低操作复杂度,提升实验可靠性和重复性

技术参数  / TECHNICAL DATA


生长单元

极限真空 优于7×10-11mbar

腔体尺寸

O.D. 400 mm(可定制)

冷屏及挡板 选配

蒸发源接口

CF35×6,CF35×4(可定制)

烘烤温度

Max 150℃

样品台 衬底尺寸 兼容2inch及以下
挡板驱动方式 电动/气动
加热方式 热辐射
温度范围 RT-800℃(K型热偶)

进样单元

极限真空

优于5×10-8mbar

存样数量

≥6片

烘烤温度

Max 150℃

传样方式 手动

控制单元

简易控制(可选)

泵规控制器
阀门手动操作
基础配置(可选) 触屏面板
数据记录
样品台控制
日志,系统管理
工艺生长软件(选配)
阀门自动操作

选配项

制备单元

极限真空:优于7×10-10mbar
烘烤温度:Max150℃
预留接口:Sample manipulator (CF100×1)
Ar/H Sputtering(CF35×2)
LEED(CF150×1)
Viewport(CF63×1+CF35×1)

原位监测

QCM
RGA
BFM
LEED
RHEED