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●小型化设计,占地极小,灵活适配各类实验环境<br> ●原子级薄膜生长与埃米级厚度精确控制<br> ●优异保形沉积能力,适用于复杂结构及粉体表面改性<br> ●支持多种氧化物及复合薄膜沉积<br> ●提供成熟工艺包支持,实现快速部署与稳定复现<br> ●兼容4英寸晶圆与微纳粉体样品<br>
Atolyze™ ALD SYSTEM
Atolyze™ ALD SYSTEM
Nexalayer™ ALD SYSTEM
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