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适用于各类真空镀膜系统,对薄膜生长厚度、沉积速率的监测与控制,典型应用包括但不限于:<br> ● 热蒸发与电子束蒸镀系统<br> ● 磁控溅射镀膜系统<br> ● 分子束外延系统<br> ● 原子层沉积系统<br>
适用于各类真空镀膜系统,对薄膜生长厚度、沉积速率的监测与控制,典型应用包括但不限于:<br> ● 热蒸发与电子束蒸镀系统<br> ● 磁控溅射镀膜系统<br> ● 分子束外延系统<br> ● 原子层沉积系统<br>
适用于各类真空镀膜系统,对薄膜生长厚度、沉积速率的监测与控制。典型应用包括但不限于:<br> ●热蒸发与电子束蒸镀系统<br> ●磁控溅射镀膜系统<br> ●分子束外延系统<br> ●原子层沉积系统<br>
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