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适用于中小型真空装置的烘烤与除气过程控制，典型应用场景包括：<br> ●中小型真空腔体和真空设备的烘烤控制<br> ●实验室真空系统及管道的加热除气控制<br> ●需要分区控温和灵活烘烤程序的科研实验装置<br> ●科研和工艺开发过程中常见的真空烘烤应用<br>
面向大功率真空系统烘烤工况，实现烘烤过程的稳定、精准及可编程控制，典型应用场景包括：<br> ● 大型真空腔体及整套真空系统的烘烤控制<br> ● 真空系统、管道及部件的高功率加热除气控制<br> ● 需要多点测温和分区功率管理的大体积装置烘烤<br> ● 长时间连续运行的真空系统烘烤与除气工艺<br>
集成负高压电源、灯丝电源与PID控温功能于一体，可用于在真空环境中对样品、探针或部件进行电子束轰击加热，典型应用包括：<br> ● 样品电子束轰击加热<br> ● 探针 / 针尖加热处理（STM、FIM 等）<br> ● 真空系统局部部件加热<br>
用于在真空环境中对样品、探针或部件进行电子束轰击加热控制，典型应用包括：<br> • 电子束蒸发源控制<br> • 样品电子束轰击加热<br>
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