膜厚监测仪
适用于各类真空镀膜系统，对薄膜生长厚度、沉积速率的监测与控制。典型应用包括但不限于：
●热蒸发与电子束蒸镀系统
●磁控溅射镀膜系统
●分子束外延系统
●原子层沉积系统
●热蒸发与电子束蒸镀系统
●磁控溅射镀膜系统
●分子束外延系统
●原子层沉积系统
产品描述
主要特点 / MAIN FEATURE
主要特点 / MAIN FEATURE
●可实现对膜厚、沉积质量及沉积速率的实时监测
●配备手动挡板控制，可对沉积厚度与沉积速率进行精准、实时调节
●最多配置 6 路传感器输入，适用于多种镀膜系统的多点同步监测，稳定性达 0.01 Å
●标配以太网，支持远程控制、方便系统集成
型号注解 / PART NUMBER COMPOSITION
②可选：101; 200；300 ③路数可选：C2:双路 C4：四路 C6：六路
型号注解 / PART NUMBER COMPOSITION
②可选：101; 200；300 ③路数可选：C2:双路 C4：四路 C6：六路
技术参数 / TECHNICAL DATA
技术参数 / TECHNICAL DATA
| 参数项 | QCM101 |
| 路数 | 双路，四路，六路（可选） |
| 参考频率稳定度 | ±1ppm |
| 频率分辨率 | 0.02Hz |
| 膜厚分辨率 | 0.1Å |
| 速率分辨率 | 0.01Å/秒 |
| 速率控制 | / |
| 功能特点 | 单层镀膜 |
| 传感器数量 | 2-6 |
| 继电器输出 | 16 |
| 数字输出 | 无 |
| 挡板控制 | 16 |
| 模拟输出 | 无 |
| 输入电压 | 90~240VAC 50Hz/60Hz |
| 尺寸 | 300 x 133 x 275mm（3U，19英寸机柜） |
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京公网安备 11011602001024号