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蒸发源控制器

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分子束外延系统

分子束外延系统

MBE SYSTEM
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系统
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分子束外延系统
Molecular Beam Epitaxy
1
产品描述

  主要特点  / MAIN FEATURE

 

  主要特点  / MAIN FEATURE

 

●结构紧凑、操作简单、节约成本

●结构紧凑、操作简单、节约成本

  产品应用  / APPLICATIONS

 

● 表面科学,超薄膜层,有机分子层。

  产品应用  / APPLICATIONS

 

● 表面科学,超薄膜层,有机分子层。

  技术参数  / TECHNICAL DATA

 

  技术参数  / TECHNICAL DATA

 

 

CMP-MBE

8英寸不锈钢球形真空腔体

本底真空

<1×10-10 mbar

四轴高低温样品台

X/Y方向移动:±5mm;
Z方向移动:150mm;
轴向旋转:±180°;
高温:1300K(电子束加热);
低温:100K(液氮冷却)。

蒸发源

5个

离子枪

2~5KeV离子枪,配备Port Aligner

可选项

(1)QCM;(2)红外测温仪;(3)反射式高能电子衍射仪

 

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