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蒸发源控制器

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分子束外延系统

分子束外延系统

MBE SYSTEM
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系统
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分子束外延系统
Molecular Beam Epitaxy
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产品描述

  主要特点  / MAIN FEATURE

 

  主要特点  / MAIN FEATURE

 

●样品尺寸:4英寸基片向下兼容

●可在超高真空、低温环境中实现多达10种不同材料生长

●具有快速进样及多片暂存功能,及SPM、RHEED、QCM、BFM等多种原位生长表征和监测扩展能力

●触摸式总控屏幕,可对各腔体真空泵实施操作、可控制各互联腔体插板阀、可进行工艺编程及实时监控系统状态

●集成化水电气模块,便于后期维护

●样品尺寸:4英寸基片向下兼容

●可在超高真空、低温环境中实现多达10种不同材料生长

●具有快速进样及多片暂存功能,及SPM、RHEED、QCM、BFM等多种原位生长表征和监测扩展能力

●触摸式总控屏幕,可对各腔体真空泵实施操作、可控制各互联腔体插板阀、可进行工艺编程及实时监控系统状态

●集成化水电气模块,便于后期维护

  产品应用  / APPLICATIONS

 

● 表面科学,超薄膜层,有机分子层。

  产品应用  / APPLICATIONS

 

● 表面科学,超薄膜层,有机分子层。

  技术参数  / TECHNICAL DATA

 

  技术参数  / TECHNICAL DATA

 

 

生长腔

样品尺寸

4 inch 向下兼容

腔体直径

550 mm

腔体材质

316L

极限真空

优于3×10-10mbar

四维运动样品台

最高1200℃

蒸发源数量

CF63×10

烘烤温度

150℃

样品预处理腔

极限真空

优于5×10-10 mbar

样品台

最高800℃(可按需定制)

Load-lock腔

接口数量

2×CF63

极限真空

优于4.5×10-8 mbar

样品暂存数量

5片(可按需定制)

控制系统

基础功能

触控操作面板

系统实时监测

泵阀规自动控制,一键PUMP,一键VENT

设定真空、传样安全互锁,配备不间断电源

自动化烘烤控制

不间断数据记录

生产工艺编程,自动化控制

报警保护功能,系统急停按钮

样品台自动控制

可选功能

生产工艺

 

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  • CN-分子束外延系统 1008.pdf

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