主要特点 / MAIN FEATURE
主要特点 / MAIN FEATURE
● 样品类型：粉体样品，旗形样品，其他样品类型可定制
● 可与超高真空XPS，STM，及其他UHV系统互联
● 腔体最高加热400℃，控温精度±1℃
● 复杂管气路，可最多具备八种前驱体、两路氧化还原气路和三路载气
● 设计独特的高温鼓泡器，可提高低蒸气压固态源反应效率和重复性
● 自动化控制系统，可自行编程实现不同类型ALD样品生长
● 控制系统带安全互锁报警功能
● 采用PID自动控温，带模糊算法自整定
● 全金属密封，适用于腐蚀性反应
● 实时测控气体流量和监测真空度
● 在线原位分析气体成分
● 自带臭氧发生器，反应残留物热分解装置
● 样品类型：粉体样品，旗形样品，其他样品类型可定制
● 可与超高真空XPS，STM，及其他UHV系统互联
● 腔体最高加热400℃，控温精度±1℃
● 复杂管气路，可最多具备八种前驱体、两路氧化还原气路和三路载气
● 设计独特的高温鼓泡器，可提高低蒸气压固态源反应效率和重复性
● 自动化控制系统，可自行编程实现不同类型ALD样品生长
● 控制系统带安全互锁报警功能
● 采用PID自动控温，带模糊算法自整定
● 全金属密封，适用于腐蚀性反应
● 实时测控气体流量和监测真空度
● 在线原位分析气体成分
● 自带臭氧发生器，反应残留物热分解装置
ALD 系统性能测试数据 / ALD TEST DATA
ALD 系统性能测试数据 / ALD TEST DATA
技术参数 / TECHNICAL DATA
技术参数 / TECHNICAL DATA
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主腔体 |
腔体尺寸 |
内径40mm ×长度 980mm，可定制其他尺寸 |
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材质 |
316SS |
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工作温度 |
RT~400℃ |
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控温精度 |
±1℃ |
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前驱体运输 |
4个低温前驱体源 |
(CH3)3Al，(CH3)3Ge，H2O etc |
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4个高温前驱体源 |
Fe(Cp)2， |
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控温精度 |
±1℃ |
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气体流量控制 |
5路气体流量控制，流量范围0~500sccm |
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载气 |
N2，Ar |
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反应气 |
O2/O3，H2 |
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控温路数 |
最多48路，控温精度±1℃ |
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阀门控制路数 |
最多24路，控制精度15ms |
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控制系统 |
主控单元，加热单元，测温单元 |
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软件控制 |
LabVIEW 图形化设计，PID自动控温、带模糊算法自整定，可编程带安全互锁报警功能 |
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可选模块 |
残余气体分析模块 |
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等离子体模块 |
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QCM原位监测模块 |
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椭偏仪光学原位检测模块 |
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FRIT光谱原位检测模块 |
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