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原子层沉积系统

ALD SYSTEM

产品描述

主要特点  / MAIN FEATURE


● 样品类型:粉体样品,旗形样品,其他样品类型可定制 

● 可与超高真空XPS,STM,及其他UHV系统互联

● 腔体最高加热400℃,控温精度±1℃

● 复杂管气路,可最多具备八种前驱体、两路氧化还原气路和三路载气

● 设计独特的高温鼓泡器,可提高低蒸气压固态源反应效率和重复性

● 自动化控制系统,可自行编程实现不同类型ALD样品生长

● 控制系统带安全互锁报警功能

● 采用PID自动控温,带模糊算法自整定

● 全金属密封,适用于腐蚀性反应

● 实时测控气体流量和监测真空度

● 在线原位分析气体成分

● 自带臭氧发生器,反应残留物热分解装置

 

ALD 系统性能测试数据  / ALD TEST DATA


      

 

      

 

技术参数  / TECHNICAL DATA


主腔体

腔体尺寸

内径40mm ×长度 980mm,可定制其他尺寸

材质

316SS

工作温度

RT~400℃

控温精度

±1℃

  前驱体运输

4个低温前驱体气路
(RT~80℃)

(CH3)3Al,(CH3)3Ge,H2O etc

4个高温前驱体气路
(RT~300℃)

Fe(Cp)2
Precious metal precursors

控温精度

±1℃

气体流量控制

5路气体流量控制,流量范围0~500sccm

载气

N2,Ar

反应气

O2/O3,H2

控温路数

最多48路,控温精度±1℃

阀门控制路数

最多24路,控制精度15ms

控制系统

主控单元,加热单元,测温单元

软件控制

LabVIEW 图形化设计,PID自动控温、带模糊算法自整定,可编程带安全互锁报警功能

可选模块

残余气体分析模块

等离子体模块

QCM原位监测模块

椭偏仪光学原位检测模块

FRIT光谱原位检测模块

相关文件 / DOWNLOAD

原子层沉积系统